マイクロ・ディッシュ 35 mm high, ESS

特長

• 0.1 mm厚の底面ガラス上に0.04 mm厚のPDMS（Polydimetylsiloxane）層があるため弾性を有する表面（ESS：Elastically Supported Surface）を有する
• 硬さは1.5 kPa, 15 kPa, and 28 kPaの３種類より選択可能
• 弾力性のある表面により、生体を模倣した硬さで細胞培養が可能

【ご注意】
別途、細胞接着用のコーティング処理が必要となります。
各種コーティング方法については、「取扱説明書」のタブにある「ibidi製品のコーティング手順」をご参照ください。
通常、ESSの表面そのままの状態では、細胞は接着いたしませんのでご注意ください。

 

 

ibidi µ-Dish ファミリー

µ-Dish 35 mm, high	µ-Dish 35 mm, low
高ウェル壁 標準的なアプリケーションとして使⽤	低ウェル壁 マイクロマニピュレーション等、より多くの作業を行う際に有用

用途

• 細胞メカニクス研究
• 免疫蛍光染色
• ライブセルイメージング

ほか

ibidi社　採用文献検索ページ

ibidi社　採用文献検索ページではibidi社製品の採用文献の検索が可能です。

http://www.ibidi.com/module/ibidireference/reference

仕様

直径	35 mm
高さ(蓋あり/蓋なし)	14 mm / 12 mm
容量	2 mL
培養エリア	3.5 cm2
観察エリア	21 mm (直径)
滅菌方法	EOG滅菌
表面特性	疎水性（未コーティング表面）
底面の材質	ガラス（0.1 mm厚）+PDMS（0.04 mm厚）

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