- 特長
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500 umのセル位置グリッドが刻印された35 mmイメージングディッシュ（ガラス底）
⽂字（A-U）と数字（1-20）でディッシュ上の座標が定義されています：100マス×４
グリッド線と細胞が同一焦点内で観察することが可能
底面は、厚さ170 um +/- 5 umのガラス製D 263 Mショットガラス製（TIRF対応可能）
蒸発を最⼩限に抑えるリッドロック機能が付いた蓋を採用
- 仕様
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培養エリア：35 mm2
400 ulを使用したコーティング領域：41 mm2
観察エリア：21 mm
底面：#1.5Hガラス製カバースリップ（170 um +/- 5 um）
グリッド線（Grid 500）マス目の数：400
グリッド線間隔：500 um
溝の幅：20 um (±5 um)
溝の深さ：＜5 um
- 外径：35 mm
- 高さ：蓋あり14 mm/蓋なし12 mm
- サンプル：あり