- 特長
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創傷治癒、細胞移動、2D侵襲アッセイ、細胞の共培養に最適。
明確な間隙（細胞のない領域）を作成するためのシリコン製のインサートです。
細胞間に500 µm±100 µｍの間隙を作ることが可能：一般的なスクラッチアッセイでは細胞間に一定間隔の間隙を作ることが難しいですが、本製品ではインサートのウェルの仕切りにより、細胞間に500 µm±100 µｍの間隙を作ることができます。
接着剤は不使用：インサート底面が柔らかいシリコン素材となっており、乾いたガラスやプラスチック表面に接着できます。
- 仕様
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µ-Dish 35 mm （High）入り＝1個1個が個別にµ-Dish 35 mmに包装されています。
ウェルあたりの培養エリア：0.35 cm²
ウェルあたりの容量：110 µL
ウェルあたりのコーティング面積：1.23 cm²
ウェルの間隔：Two cell fronts：500 µm+/-100 µm、Four cell fronts(center)：1000 µm+/-100 µm
材質：生体適合性シリコン
µ-Dish サイズ：直径35 ｍｍ/高さ14 mm（蓋あり）、12 mm（蓋なし）
- サンプル：あり